港理工郑子剑教授团队《ACS AMI》：应用于电子织物的快速聚合物辅助金属沉积

点击上方“蓝字” 一键订阅高导电、耐用、透气的金属涂层织物是实现未来可穿戴电子产品的关键材料。通常，在织物上沉积金属之前，需要对织物表面修饰处理来提高金属和织物之间的结合力。然而，现有的修饰过程通常耗费几十分钟乃至数个小时，并且有可能损伤织物材料，降低织物材料的强度，因此不利于后续的纺织、电子器件制备等步骤。香港理工大学理学院应用生物及化学科技学系郑子剑教授团队在《ACS Appli. Mater. Interfaces》上发表了题为“Destructive-Treatment-Free Rapid Polymer-Assisted Metal Deposition for Versatile Electronic Textiles”的文章（DOI: 10.1021/acsami.2c19278）。文章报道了一种紫外引发的快速交联方法，可在织物上修饰用于辅助金属沉积的聚合物。这种快速聚合物辅助金属沉积 (r-PAMD)可以应用于各种常见的织物材料，例如棉、涤纶、尼龙、芳纶、 ………………………………