1nm光刻机突破

11月30日最新报道，近日荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）又送来一则好消息，该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。据了解，先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时，ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划，预计相应的曝光设备全线准备好之后，会在2022年实现商业化。　　然而，这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际，我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉，中芯国际于2018年自阿斯麦（ASML）手上购买了一台价值约1.2亿美元（折合约7.9亿元人民币）的EUV光刻机。由于订购的设备一直没到手，中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出 ………………………………