延期多年，EUV光刻机终于准备好了

在日前举办的2017年Q4法说会上，台积电透露，其极紫外光光刻机（extreme ultraviolet lithography: ，简称EUV光刻机）产能已经取得了较大的进步，目前已经将其电源功率提高到160W，助力7nm和5nm制造，而250瓦EUV也已经安装到位。EUV光刻机的唯一供应商ASML在2017年度Semicon West半导体设备展上也表示，250瓦的EUV光源也万事俱备。公司2017年财报中也强调，其EUV光刻机满足了125WPH（每小时生产125片晶圆）的性能规格。那就意味着最初计划在2004年推出的EUV光刻机，在延误了十三年之后，终于准备好了。EUV光刻机被誉为救世主，关键问题已解决过去几十年，半导体产业在摩尔定律的指导下获得了高速的发展，为了满足摩尔定律“同等面积芯片集成的晶体管数每18个月翻一番”的要求， ………………………………