EUV光刻机重磅报告，美国发布

编者按近日，美国NIST发布了一个有关EUV光刻机的重磅报告。在其中，他们对EUV光刻的发展现状和未来进行了总结和展望。以下为文章正文：引言2022年，半导体市场规模约为0.6万亿美元，商业分析师预计到2030年将翻一番，达到1.0万亿至1.3万亿美元。半导体制造业的大幅增长可以在光刻工艺中体现出。光刻是一种图案化工艺，将平面设计转移到晶圆基板的表面，形成晶体管和布线互连等复杂结构。这是通过一个复杂的多步骤过程，选择性地将光敏聚合物或光刻胶暴露在特定波长的光下完成的。最近，光刻技术的进步在生产最先进的半导体方面创造了竞争优势，使人工智能（AI）、5G通信和超级计算等最先进的技术成为可能。因此，先进的半导体技术会很大程度上影响国家安全和经济繁荣。当今最先进的半导体光刻工艺使用EUV光源，特别是13.5nm的光。EUV ………………………………