看啥推荐读物
专栏名称: 处芯积律
处芯积律,而后知所至。一个芯片人的技术和行业研究分享。
今天看啥  ›  专栏  ›  处芯积律

效率提升53倍!超大规模OPC上云!

处芯积律  · 公众号  ·  · 2023-12-22 11:40
上一篇《从30天到17小时,如何让HSPICE仿真效率提升42倍?》里,我们帮一家Design House提高了使用HSPICE进行芯片设计仿真的效率。而设计好的集成电路图案需要通过光刻机转印到晶圆上才能完成制造,这就是芯片制造中最重要的一个步骤——光刻。在先进工艺特别是 FinFET 工艺中,计算光刻已经成为光刻工艺研发的核心。光学邻近效应校正(Optical Proximity Correction,OPC)属于计算光刻技术的一种,主要是利用软件和高性能计算,来模拟仿真光刻过程中的光学和化学过程,通过仿真建立精确的计算模型,然后调整图形的边沿不断仿真迭代,直到逼近理想的图形,最终加速工艺研发周期的目标。这一过程对计算资源的需求随着模型的精确度呈指数级别增长。举个例子,一款7nm芯片需要高达100层的光罩,每层光罩数据都需要使用EDA工具进行OPC的过程。整个过 ………………………………

原文地址:访问原文地址
快照地址: 访问文章快照