从一无所有到平等对话 这家企业打破国外高纯金属靶材垄断

早在1842年，科学家格波夫就在实验室中发现了阴极溅射现象，但由于人们对溅射技术缺乏深入了解，商业化的磁控溅射设备直到1970年才逐渐应用于实验室和小型生产。20世纪80年代以后，随着以集成电路、信息存储、液晶显示器、光存储器、电子控制器为主的电子与信息产业开始进入高速发展时期，磁控溅射技术才从实验室应用真正进入工业化规模生产应用领域。然而，直到21世纪初，中国的靶材仍高度依赖进口，国内竟无一家企业能够提供高纯金属靶材，市场被日立金属、TDK等海外企业完全垄断。彼时，刚刚经历转企改制的有研集团正在寻找产业化落地的项目，经过一年多时间的调研，有研团队将目标对准了高纯金属靶材。据全程参与研发的现任有研新材料股份有限 ………………………………