EUV 光刻会是未来的救世主吗？

（老冰翻译、整理并根据自己的理解改写）光刻技术大概是现代集成电路的第一大关键技术。现在， 液浸式光刻系统是最为成熟的技术，被认为在短时间内很难被取代。不过，极紫外光刻（EUV 光刻）技术半路杀出，成为近年来三星、台积电等公司的追捧。有人认为 EUV 光刻能够拯救摩尔定律，但事实是否真的如此？EUV实地测试：在位于纽约阿尔伯尼的纽约州立大学理工学院里，这台EUV光刻机（型号ASML NXE: 3300B）被用来刻出芯片表面的容貌。从图中这台设备前方的靠底部位置，可产生用来曝光晶圆表面的EUV光。机器远端连接了一条导轨，可以给晶圆在曝光前覆上涂层，并处理曝光后的工作。 你很难想象它有多大。纽约的价值 120 亿美元的 GlobalFoundries 制造中心成行成列 ………………………………