ASML估计今年可出货20套EUV光刻机

会议邀请人工智能（AI）芯片设计研讨会（7月25日，北京国家会议中心）来源：eettaiwan荷兰半导体设备大厂ASML日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)光刻机，该数量预期在2019年将增加到30套以上。ASML是在最近发布的第二季财报中做出以上预估数字，该公司也透露其整体EUV工具销售业绩优于预期，达到约32亿美元；ASML执行长Peter Wennink表示，「毛利率比我们的预期略高，反映了我们的深紫外光(DUV)与应用业务的强劲表现，以及EUV获利进展。」ASML在第二季出货4套EUV系统，比先前预测的多了1套；Wennink表示这是因为逻辑元件客户准备要在今年稍晚量产下一代产品。被视为5纳米以下先进半导体制程重要推手的EUV技术终于在迟到数年后迈入量产阶段，包括三星(Samsung)、英 ………………………………