日媒：中国欲联手日企开发光刻机

EETOP专注芯片、微电子，点击上方蓝字关注我们随着美国加强对中国半导体企业的制裁与管制，使得过去中国设定到的未来几年内芯片自给率要达到7 成的目标存在变数。对此，《日本经济新闻》报导指出，面对美国的制裁，从长远来看，这将反而可能会助长中国半导体产业的自立与发展。尤其是为了突破美国对中国的高科技设备封锁，中国方面将联合日本厂商尼康（Nikon）及佳能（Canon）一起研发除EUV 之外的其他类型光刻机设备。报导指出，美国近来陆续以禁售令来制裁中国华为与中芯国际等相关企业。就有供应链厂商指出，尽管有美国政府的出口限制，但中国半导体企业目前仍在设法迂回避开美国的禁令规定，寻找生路。而其中，与日本企业传出将共同研发光刻机 ………………………………