中科院金属所任文才团队ACS Nano、AM齐发：史上最强电磁屏蔽材料、超薄层状原始石墨烯纳米膜

（一）史上最强电磁屏蔽材料石墨薄膜具有诸多优异的性能，在储能、电磁干扰（EMI）屏蔽、热管理、紫外光刻等领域都有着广阔的应用前景。但是，现有的合成方法需要非常高的处理温度（∼3000°C）和/或长达数小时的处理时间，阻碍了石墨烯膜的应用。2月19日，中国科学院金属研究所任文才研究员报道了通过在乙醇中淬火热的镍箔，实现了在几秒钟内快速合成数十纳米厚的高质量石墨薄膜。通过该方法，石墨烯膜的垂直生长速率可达64nm·s-1以上，比现有方法高出2个数量级以上。此外，制备得到的薄膜具有优异的导电性（∼2.6×105s/m）和高机械强度（∼110MPa），与化学气相沉积法相当甚至优于化学气相沉积法。作者展示了这些石墨薄膜在电磁干扰屏蔽的应用潜力，它 ………………………………