不容错过！IWAPS 2019等你来

第三届国际先进光刻技术研讨会IWAPS 201910月17-18日, 南京, 金陵江滨酒店Oct. 17-18, Nanjing, ChinaNanjing Jinling Riverside Hotel▼长按报名▼主办单位集成电路产业技术创新联盟中国光学学会承办单位中国科学院微电子研究所南京浦口高新区组委会论文征集Call for papers2019.7.15摘要提交截止Abstract Deadline摘要接收通知Abstract AcceptanceNotification2019.7.312019.9.30全文稿件截止Manuscript Deadline投稿邮箱（Email） jomm_iwaps@ime.ac.cn接收论文主题scope of PAPERS        IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验，到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于:光刻 极紫外光刻 新型技术量测及缺陷检测设计工艺联合优化(DTCO)与可制造 ………………………………