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“他们觉得我在搅局,想说服老板阻止我”  林本坚回顾浸润式光刻机研发芯酸历程

EETOP  · 公众号  · 硬件  · 2022-06-13 12:33
恭喜部分学员成功转岗IC验证!《芯片验证从入门到精通》更新完毕!1750补贴仅存最后几个名额!编按:林本坚是台积电前研发大将,他在2000年加入台积电。2002年时全球投入波长157纳米干式微影技术遇到瓶颈,他发表浸润式微影技术引起轰动,却遭干式微影技术的大公司针锋相对,因干式微影技术的投资已远超过10亿美元。在台积电支持下,林本坚和组内的同仁写好几篇论文,从理论的观点证明浸润式微影的可行性及优势,后来说服ASML放弃原先157纳米干式微影光刻机的研发,转向与台积电共同开发193纳米浸润式微影机台,让台积电在55纳米之后跳跃成长6个技术世代,更影响了半导体产业长达20年的发展,林本坚在书中描述当时的关键一战。浸润式微影—改变半导体业的发展方向浸润式微影,从45纳米的世代成为生产半导体的主流,到现在 ………………………………

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