中国集成电路产业发展的艰难历程回顾

来源 ：芯思想一、中国集成电路产业发展艰难历程1、中国集成电路早期研发状况（中国科学院半导体所、13所等）1947年美国贝尔实验室发明半导体点接触晶体管，1949年研制出锗合金晶体管。中国科学院应用物理所也于1956年研制出锗合金晶体管。1954年美国研制出硅合金晶体管。中国北京电子管厂也于1958年研制出硅合金晶体管。就在1958年，美国得克萨斯仪器公司和仙童公司分别研制成半导体单块集成电路。1959年美国发明平面光刻技术，研制成功平面型扩散晶体管（简称“平面管”）。1960年美国采用平面技术研制成集成电路，从此走上可以大量生产的道路。中国科学院半导体所也在1963年研制成平面管，同时有多家单位也在研制平面管。紧接着，中国多家研究单位于196 ………………………………