第四届国际先进光刻技术研讨会在成都胜利闭幕！附史上最全会议记录

11月6日，第四届国际先进光刻技术研讨会在成都胜利闭幕，会议由中国集成电路创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、中科芯未来微电子科技成都有限公司和中国科学院光电技术研究所承办，成都市双流区人民政府和南京诚芯集成电路技术研究院协办，IEEE电气和电子工程师协会提供技术支持。本次会议由Mentor、EDWARDS、GIGAPHOTON、汉拓光学材料、华虹集团、JSR、沈阳芯源、KLA、南大光电、PIBOND、全芯智造、SMEE、燕东微电子、ZEISS、Cymer、KEMPUR等国内外企业提供赞助。来自中国、美国、德国、日本、荷兰等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共500余名技术专家和学者参加了本届大会。会议开始，大会主席、中国集成电路创新联盟副理事长兼秘书 ………………………………