ASML新动态: 1nm光刻机、台积电、三星与中国市场

ASML已完成1nm芯片EUV光刻机设计，并加强与台积电和三星的合作ASML对中国大陆市场出口持开放态度，EUV等出口许可证 ——ASML已完成1nm芯片EUV光刻机设计 2020年11月中旬，日本东京举行了 ITF（IMEC Technology Forum,. ITF）论坛。在论坛上，与荷兰商半导体大厂艾司摩尔（ASML） 合作研发半导体光刻机的比利时半导体研究所(IMEC)正式公布了 3 纳米及以下工艺的在微缩层面的相关技术细节。 根据其所公布的内容来看，ASML 对于 3 纳米、2 纳米、1.5 纳米、1纳米，甚至是小于 1 纳米的工艺都做了清楚的发展规划，代表着ASML 基本上已经能开发 1 纳米工艺的光刻设备。 在论坛中，IMEC 公司总裁兼首席技术官 Luc Van den hove 在主题演说中先介绍了公司研究概况，强调透过与 ASML ………………………………