中国12吋晶圆项目光刻机采购统计与光刻材料市场 (附项目地图)

光刻是晶圆制造的核心工艺。半导体用光刻机、光刻胶、光掩膜等的市场分别被国外龙头企业如ASML、Canon、信越化学、JSR、住友化学、Fujifilm等企业所主导。目前中国半导体光刻产业链基础薄弱，市场潜力巨大，发展空间广阔。——光刻机，半导体制造的核心设备光刻是集成电路制造的最关键、最复杂、耗时占比最大的核心工艺，约占晶圆制造总耗时的40%-50%。公开数据显示，2019年光刻设备占半导体晶圆处理设备市场的23%左右。近十几年来，ASML处于全球半导体前道光刻机绝对龙头地位，市场份额常年在60%以上，市场地位极其稳固。而在高端机型方面（ArF、ArFi、EUV），如今ASML更是占据接近90%的市场，在最先进EUV光刻机这块，更是ASML独一家！相比之下，日本双巨头——尼 ………………………………