专栏名称: 半导体行业观察
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光刻机为什么那么难?

半导体行业观察  · 公众号  · 半导体  · 2018-04-20 09:00
来源:内容来自科技日报,谢谢。近年来,中国科技正带着澎湃动力向前奔跑,并逐渐进入到跟跑、并跑、领跑“三跑并存”的阶段。但我们在充满信心的同时,还应更加清醒和理性。与发达国家相比,我国不少领域关键核心技术受制于人,亟待集中力量奋力攻关。真正的核心技术靠化缘是要不来的。我们还有多少亟待攻克的关键核心技术,差距在哪,需要从哪些方面突破?本报从今天起,开辟“亟待攻克的核心技术”专栏,就此进行梳理、解读和评析。指甲盖大小的芯片,密布千万电线,纹丝不乱,需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度,决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家;顶级光刻机由ASML垄断。“十二五”科技成就展览上 ………………………………

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