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专栏名称: MEMS技术
微机电系统MEMS技术,是融合了光刻、腐蚀、薄膜、LIGA、硅微加工、非硅微加工和精密机械加工等技术制作的高科技电子机械器件。MEMS是一个独立的智能系统,其内部结构一般在微米甚至纳米量级。
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EUV光刻机研发挑战仍存,本土企业如何突破技术成本关?

MEMS技术  · 公众号  ·  · 2019-04-03 12:00
光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。但是193nm的光刻技术依然无法支撑40nm以下的工艺生产,为了突破工艺极限,厂商不得不将193nm液浸技术和各种多重成像技术结合起来使用,但这在无形中提升了制造成本,拉长了工艺周期。为了通过提升技术成本来平衡工序成本和周期成本,厂商们将底牌压在了EUV光刻机身上,但是EUV真的能够满足厂商们的期盼吗?EUV技术再度突破在半导体制程中,光刻工艺决定了集成电路的线宽,而线宽的大小直接决定了整个电路板的功耗以及性能,这就凸显出光刻机的重要性。传统的光刻机,按照光源的不同,分为DUV光刻机(深紫外光)以及EUV光刻机(极紫外光)。工艺制程还在28nm徘徊时,DUV光刻机无疑是最佳的选择,但是随着工艺制程的升级,想要迈向更小的线路,就只能使用EUV光 ………………………………

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