精华 | 芯片光刻全过程（清洗\/预烘\/涂覆\/前烘\/曝光\/显影\/刻蚀\/去除）

振聋发聩！任正非向习近平汇报发言（全文)福利：快来领取，中国半导体资料库！18个G！转！税率降至13%后，我们怎么应对客户的降价要求？芯 榜中国半导体排行榜！ 添 加芯 片 圈芯片半导体人的圈子！添 加来源：半导体行业观察在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后，开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕（图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃 ………………………………