已拿“入场券”！中国全自主7nm芯片，3年内可望成熟！

制裁中兴、制裁华为，深深让国人感受到了中国在半导体芯片领域的薄弱。美国对中国集成电路产业链的精准打击，更是让国人认识到了中国在芯片制造设备领域的薄弱。而对于芯片制造来说，最为关键的设备当属光刻机。光刻机按照用途可以分为IC 前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机。而我们经常所说的芯片制造所使用的则是IC前道光刻机。资料显示，光刻工艺是芯片制造过程中占用时间比最大的步骤，约占芯片制造总时长的40%-50%。同时，光刻机也是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备，约占晶圆生产线设备总成本的27%。目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。28nm光刻机，中国已拿到“入场券”！可制造7nm芯片！(先看视频)近日，央视财经专题节目《而立浦东》，报道了上海微电子的最 ………………………………