中芯国际5nm良率已达70%！？

主要观点总结

近日微博大V分享了中芯国际在先进制程方面的消息，传闻其5纳米制程良率已提升至60%-70%，但有账号对此表示质疑。中芯国际计划在2025年前完成5纳米芯片开发，但采用深紫外光微影设备可能导致成本增加。传闻的良率与三星电子的3纳米GAA制程相当。但最后提到一次线下技术研讨会的举办信息。

关键观点总结

关键观点1: 中芯国际5纳米制程的良率提升至60%-70%。

传闻中芯国际在先进制程方面取得显著进展，良率提升至较高水平。

关键观点2: 关于良率提升的消息遭到质疑。

有账号对良率提升的消息表示质疑，指出可能存在不实内容。

关键观点3: 中芯国际计划在2025年前完成5纳米芯片开发。

中芯国际有长期计划，致力于在指定时间内完成5纳米芯片的开发。

关键观点4: 采用深紫外光微影设备增加成本。

中芯国际在芯片开发过程中采用深紫外光微影设备，这可能导致成本增加。

关键观点5: 线下技术研讨会的举办信息。

文章最后提到了关于EETOP微信群举办的线下技术研讨会的信息，包括日期和地点。