国产光刻胶通过量产验证！

文章预览

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！     不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓↓↓ 来源： 长江商报 10月17日消息，中国光谷诞生重大科技成果，湖北企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。 日前，武汉太紫微光电科技有限公司（简称太紫微公司）在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。 从性能来看，该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，相较于国外同系列产品UV1610，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀。 长江商报记者注意到，太紫微公司成立至今不到5个月时间。天眼查显示 ………………………………