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CINNO Research 产业资讯,最近,来自中国武汉大学的研究人员在《 Nano Letters》期刊上,以“ 氮化铝镓( AlGaN )极化超薄隧穿结深紫外发光二极管 ”为论文名介绍了他们在 DUV LED 领域的一项突破。据介绍,他们通过 一种称为极性超薄隧穿结( PUTJ , Polarized Ultrathin Junctions )技术 的开发 ,解决 了 深紫外( DUV)发光二极管(LED) 研究领域 长期存在的 一个 难题 。样品测试结果显示,他们 实现了在 30 安培每平方厘米 的驱动 电流密度下 , 工作电压低至 5.8 伏特的创纪录水平, 与此同时,该深紫外发光器件的 光输出功率( LOP , Light Output Power )提高了 40%。 该研究团队表示,这一成果的实现主要得益于他们使用了一种极化处理的氮化铝镓 异质结构 ,它能够很好地 改善 器件中 载流子 的 隧穿和电流扩散, 这也 标志着 学术界 在开
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