三星晶圆代工厂将采用三井化学公司的EUV光罩护膜；美光10纳米DDR5 DRAM新品开始出货丨智能制造日报

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1.【三星晶圆代工厂将采用三井化学公司的EUV光罩护膜】2月26日消息，据报道，由于芯片制造商希望提高超精细加工的生产率，三星电子（Samsung Electronics）的代工业务将从三井化学（Mitsui Chemicals）购买价值数十亿韩元的EUV（极紫外光刻）光罩护膜。经过最终测试后，三星将在其韩国华城园区S3工厂的3纳米晶圆代工生产线上采用EUV光罩护膜进行量产。（界面新闻） 2.【美“新谢泼德”飞行器完成第10次载人太空飞行】美国蓝色起源公司的“新谢泼德”飞行器25日完成第10次载人太空飞行，搭载6人进行长约10分钟的“太空游”。“新谢泼德”飞行器是可重复使用的运载火箭和太空舱组合体，其设计目标是将宇航员和科研载荷送入太空，飞行高度可达约107千米，超过距地表100千米的“卡门线”，这是国际航天界定义的地球大气层与太空的边界。（新华社） ………………………………