PV、HV、HPV真空系统工艺介绍

一、PV（ Plant vacum）工艺真空工艺真空（制程真空）系统广泛应用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业，需要有极高的运作性能和可靠性。随着电子厂自动化程度越来越高，很多机器设备都需要真空作为设备的动力。大部分的真空度要求在-0.06MPa -0.09MPa 左右。工艺真空系统（PV）主要由真空泵、真空罐、真空测量仪表及管道系统等组成。应用于工业生产的许多工艺过程中，如真空过滤、真空引水、真空送料、真空蒸发、真空浓缩、真空回潮和真空脱气等。按真空泵的工作原理，基本可以分为两种类型：气体传输泵和气体捕集泵。其中芯片厂主要用于wafer的吸取及移动以及如下设备：IMP机台（MIC）；PH机台（MCT，DSS，MSR，DCT，KLA，SEM，AIT，LOM）； ET机台（CDE，UVC）； TF机台（PEO，SCR，XRF）；CMP机台（ILD，WWW，STI，BGR）；量测机台（HTK，PRO ………………………………