聚焦离子束（FIB）的技术史与商业演化

主要观点总结

本文主要描述了聚焦离子束（FIB）技术的历史发展，应用领域以及参与这一领域研究和发展的公司。从离子源的设计和技术的半个世纪历史，到现代液态金属离子源（LMIS）和离子柱设计的分辨率不断提高，结合双束机器中离子束与电子束的使用，FIB的应用领域已经大幅扩展。此外，本文还列出了参与这一技术研究和开发的重要公司和个人的贡献。

关键观点总结

关键观点1: 聚焦离子束（FIB）技术历史和发展

从离子源的设计和技术开始，描述了聚焦离子束技术的半个世纪历史，包括早期的研究者如Gilbert、Krohn和Clampitt等，以及他们的工作对现代FIB技术的影响。

关键观点2: 聚焦离子束（FIB）的应用领域

列举了聚焦离子束技术在半导体制造、材料分析、微纳加工等领域的应用，如局部掺杂、铣削、表面化学、光刻、材料微区分析等。

关键观点3: 参与聚焦离子束（FIB）技术研究和发展的公司和个人

介绍了参与聚焦离子束技术研究和发展的重要公司如FEI、JEOL、Orsay Physics等，以及个人的贡献，如Seliger、Orloff、Melngailis等。