EUV光刻机是中国半导体行业的唯一症结吗？

EUV光刻机是中国半导体产业发展路上需要解决的问题的一个缩影。”作者 | 吴优出品 | 雷锋网产业组在一颗芯片诞生的过程中，光刻是最关键又最复杂的一步。说最关键，是因为光刻的实质将掩膜版上的芯片电路图转移至硅片，化虚为实。说最复杂，是因为光刻工艺需要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等数十道工序才得以最终完成。图片源自ASML官网正因如此，集数学、光学、物理、化学等众多学科技术于一身的光刻机，被称之为半导体工业皇冠上的明珠，占据晶圆厂设备投资总额的约25%。在中美关系紧张的大背景下，这颗“明珠”备受关注，其光环似乎已经盖过了其他半导体设备，更是有声音认为只要拥 ………………………………