欢迎大家参加第二届第三代半导体晶体生长技术与市场研讨会宁波合盛新材料有限公司周勋博士将出席第二届第三代半导体晶体生长技术与市场研讨会并做《外延pit缺陷对JBS二级管击穿电压的影响及其控制措施》的报告。宁波合盛新材料有限公司周勋博士周勋，2012年获西北工业大学材料学院博士学位，2017年加入宁波合盛新材料有限公司，2020年加入合盛的第三代半导体碳化硅项目，并负责外延部门的筹建、工艺研发等工作。报告摘要：通过研究外延缺陷对应位置加工成器件后的相关性能，获得外延缺陷与器件性能的关联性，并提出相关外延缺陷的工艺控制措施。支持媒体：半导体信息、光伏见闻、DT半导体、光伏、SEMIE半导体参展单位（目前还有少量展台剩余）：A1苏州铼铂机电科技有限公司；A2天津市裕丰碳素股份有限公司；A3美维尔（上海）环境
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