石墨烯膜，最新Nature子刊！

主要观点总结

本文介绍了一种电化学修复策略，该策略用于掩盖石墨烯中的非选择性孔隙，以提高离子-离子选择性。通过在石墨烯上电聚合沉积共轭微孔聚合物（CMP）层，实现了对石墨烯孔径分布的修复，显著提高了Li+/Mg2+选择性，并保持了高Li+离子渗透率。该研究为石墨烯缺陷工程提供了一个有前景的途径，并促进了具有可定制孔隙尺寸的单层石墨烯膜的制备。

关键观点总结

关键观点1: 研究背景及重要性

原子厚度的多孔晶格的制备具有吸引力，但在孔径分布的末端避免较大的非选择性孔具有挑战性，降低了离子-离子选择性。该研究填补了这一空白，为石墨烯膜的应用提供了更广阔的前景。

关键观点2: 研究方法及过程

本研究提出了一种电化学修复策略，通过在石墨烯上电聚合沉积共轭微孔聚合物（CMP）层，掩盖非选择性孔隙，实现了离子选择性的提高。这一策略结合了石墨烯和CMP材料的优势，利用强π-π相互作用达到修复效果。

关键观点3: 研究结果及影响

修复策略显著提高了Li+/Mg2+选择性，达到了300，同时保持了高Li+离子渗透率。这不仅提高了石墨烯膜的离子分离性能，而且为石墨烯缺陷工程提供了一个有前景的途径，促进了具有可定制孔隙尺寸的单层石墨烯膜的制备。

关键观点4: 研究展望及价值

该研究为石墨烯膜在离子分离领域的应用提供了新的思路和方法，推动了石墨烯缺陷工程的发展。此外，该策略在制备具有可定制孔隙尺寸的单层石墨烯膜方面具有重要意义，为石墨烯膜在多种膜应用的发展提供了一个有希望的平台。