新凯来“没有”光刻机，需要失望吗？

主要观点总结

本文介绍了在2025湾区半导体产业生态博览会（湾芯展）上，新凯来公司展出了其光学检测、物理与X射线量测设备、刻蚀产品等，但没有展出国产光刻机。文章提到国产半导体产业的现状和发展情况，分析了当前所面临的差距和挑战，强调了国内厂商对DUV+多重曝光路线的探索及光刻机光源技术路线的竞争。文章指出国产半导体产业的发展需要务实研发，长期主义，少些浮躁炒作。

关键观点总结

关键观点1: 新凯来公司在湾芯展上展出了一系列半导体装备，但没有展出最期待的光刻机。

新凯来公司在展会上展示了其光学检测BFI产品岳麓山、物理与X射线量测设备XPS赤霞山-XP等，但并未展出国产光刻机。

关键观点2: 国产半导体产业在追赶国际先进水平的过程中面临差距和挑战。

国内厂商正在探索DUV（深紫外光刻机）+多重曝光来突破制程限制，但当前国产尖端芯片产品仍然落后于国际领先水平。

关键观点3: 光刻机光源技术路线存在竞争。

当前EUV光刻机的主要技术路线有LPP和DPP，而LPP方案因光源质量高和设计寿命长成为主流。国内也在探索光刻机光源技术，但LDP方案想要挑战LPP方案仍有很大难度。

关键观点4: 国产半导体产业的发展需要务实研发和长期主义。

文章强调国产半导体产业的发展不能仅靠营销话术，而需要正视差距、步步为营，少些浮躁炒作，多些务实研发，少些短期狂欢，多些长期主义。