国产光刻机，最新专利曝光！

主要观点总结

本文主要介绍了上海微电子装备（集团）股份有限公司公布的一项专利，该专利涉及一种光束调整装置及光刻机，应用于半导体制造技术领域。专利内容包括光束调整装置的结构和驱动方式，以及通过该装置控制的光刻机的优点。此外，文章还提供了行业资讯的二维码下载链接和相关的行业交流群信息。

关键观点总结

关键观点1: 上海微电子装备（集团）公布的新专利

涉及光束调整装置及光刻机的技术细节，该专利的申请公布日为2025年3月21日，申请公布号为CN119668039A。

关键观点2: 光束调整装置的特点

包括支撑座、反射镜组和驱动机构，反射镜组的安装座与支撑座可活动连接，两个驱动机构分别控制镜组安装座在两个垂直轴线的转动，以实现精准控制，避免转动串扰。

关键观点3: 光刻机的优势

通过应用上述光束调整装置，光刻机加工质量好，产品成品率高。

关键观点4: 行业资讯与交互方式

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