EUV的前景更加光明

文章预览

本文由半导体产业纵横（ID： I CV IEWS ）编译自semiengineering 人工智能芯片的需求正在呈指数级增长，但成本和复杂性限制了这项技术只能由少数几家公司掌握。 这种情况可能很快就会改变。 用于支持一切人工智能的先进节点芯片的需求快速增长，给行业满足需求的能力带来了压力。 从支持大型语言模型的超大规模数据中心，到智能手机、物联网设备和自主系统中的边缘 AI，各种应用对尖端半导体的需求都在加速增长。但制造这些芯片严重依赖极紫外 (EUV) 光刻技术，这已成为扩大生产的最大障碍之一。自 2019 年首批商用 EUV 芯片下线以来，设备、掩模生成和光刻胶技术的稳步改进使该技术趋于稳定。但尽管产量正在提高，但仍落后于更成熟的光刻技术。 工艺稳定性需要不断警惕和微调。就 EUV 而言，它还需要在发电、设备和耗材方面进行大量投资 ………………………………