传三星将抢先台积电拿到High NA EUV光刻机

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8月16日消息，据韩国首尔经济日报报道，三星将于2024年第四季度到2025年第一季在韩国华城园区开始安装首套High-NA EUV，预计2025年中启用，首先会用于开发2nm以下逻辑制程，以及先进的DRAM芯片制程。三星也计划与Lasertec、JSR、Tokyo Electron和Synopsys合作，打造High-NA EUV生态系统。 ASML目前有十多套High NA EUV光刻机订单，今年4月英特尔率先完成了全球首台High NA EUV光刻机安装，近期英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）在2024年第二季财报会议上透露，其俄勒冈州半导体研发基地即将迎接第二套High NA EUV光刻机的进驻。除了英特尔之外，台积电、三星、SK海力士及美光都在排队等待High NA EUV光刻机。 之前的消息显示，台积电将于今年年底导入High NA EUV光刻机，三星和SK海力士可能要等到2025年，最快2025下半年。但根据最新的市场消息来看，三星有机会比台积电早 ………………………………