风格迁移重大突破！西湖大学等提出StyleStudio攻克「过拟合」难题 | CVPR 2025

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   新智元报道   编辑：LRST 【新智元导读】 StyleStudio能解决风格迁移中风格过拟合、文本对齐差和图像不稳定的问题，通过跨模态AdaIN技术融合文本和风格特征、用教师模型稳定布局、引入基于风格的无分类器引导，实现精准控制风格元素，提升生成图像的质量和稳定性，无需额外训练，使用门槛更低！ 近年来，随着扩散模型的发展，风格迁移技术在文本引导的图像生成任务中取得了显著突破。 然而，尽管现有方法可以实现优秀的风格化效果，但其对文本信息的精准控制仍存在明显不足，大多数方法在融合风格图像与文本描述时，往往会让生成结果过度依赖参考风格图像，导致对文本内容的响应能力下降。 「风格主导的失衡问题」 使得用户在输入文本提示时难以精准控制图像的颜色、结构或其他细节属性，还可能引入不稳定因素，例如棋盘格 ………………………………