英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位？

12月21日，荷兰光刻机巨头ASML通过社交媒体宣布，其首套高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻机正从荷兰Veldhoven总部开始装车发货，将向英特尔进行交付。据了解，高数值孔径极紫外光刻机成本高达3-4亿美元，组装起来比卡车还大，被分装在250个单独的板条箱中进行运输，共计需要13个大型集装箱。考虑到交货时间和后续安装，真正投入使用还需要数月时间。数值孔径（NA）是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。一般来说，金属间距缩小到30nm以下之后，也就是对应的工艺节点超越5nm，低数值孔径光刻机的分辨率就不够了，只能使用EUV双重曝光和/或曝光成形（pattern shaping）技术来辅助，不但会大大增加成本，还会降低良品率。因此，更高数值孔径成为必需。ASML的高数值孔径极紫外光刻机，将NA值从0.33 ………………………………