日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！

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8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。 换句话来说，全新的光学系统相对原有的系统来说，功耗可以降低到原来1/10！而对于EUV光刻机来说，随着对于光源系统功率要求的大幅降低，将使得其整套光源系统的体积和成本也将大大的降低，反射镜数量的减少也将带来成本降低，同时光刻机能耗的降低也将使得其运行的电耗成本极大的降低，并显着提设备的可靠性和使用寿命。 ASML EUV光刻机的光学系 ………………………………