主要观点总结
本文主要介绍了半导体工厂使用的Gas分为大宗气体系统和特种气体系统,重点介绍大宗气体系统的组成及供气方式。大宗气体系统包括供气系统、管道系统和纯化与过滤等环节,其中氮气是使用量最大的气体。文章详细描述了不同气体的供气方式、纯化要求、品质监测以及供气系统的可靠性问题。
关键观点总结
关键观点1: 大宗气体系统概述
包括供气系统和管道系统,供气系统包含气源、纯化、品质监测等部分,管道系统采用SUS 316L EP级管道。
关键观点2: 氮气供气方式
根据用量不同,可采用液氮储罐、空分装置现场制氮等方式供气。
关键观点3: 其他气体的供气方式和纯化要求
氧气和氩气常采用液氧储罐供应,氢气以气态方式供应,氦气使用钢瓶组或Tube Trailer/ISO槽车供气。所有气体都需要进行纯化以满足高纯度要求。
关键观点4: 气体的品质监测和供气系统可靠性
对气体进行品质监测以确保符合工艺要求。供气系统的可靠性对于微电子行业的生产至关重要,需要充分考虑备用供气系统和纯化器的设置。
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