光刻机详解

文章预览

作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。 了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 光刻（Photolithography） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 光刻机是集成电路芯片制造的关键核心设备。光刻机是微电子装备的龙头，技术难度最高，单台成本最大。   光刻机发展路线图     光刻机三巨头   荷兰的ASML，日本的Nikon，Canon   光刻机重要评价指 ………………………………