ASML光刻机，如何一步步走上“绝路”？

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作为最早在网上连载《光刻机之战》系列和翻译出版ASML传记《光刻巨人》的始作俑者，我近两年一直躲开这个话题。一方面因为深入技术讨论的门槛越来越高，另外一方面实在也怕沸腾派以理服人。 前不久ASML宣布联席总裁温宁克和范登布林克明年4月份退休，让我突然想给过去的一点历史做个小注脚。 看过《光刻巨人》的朋友一定对范登布林克(Martin van den Blink)记忆犹新， 他也正是三十年来ASML的技术领路人 。 去年范登布林克在接受采访时，曾暗示目前即将出货的High-NA EUV光刻机(NA=0.55) 可能是ASML最后一代产品 。虽然业界已经开始在讨论Hyper-NA(超NA，即NA>0.7)，但老范认为它的成本会恐怖到不可能，大概原因是他能看到这一代产品已经把合作伙伴们逼到极限。(注：NA简单地说，是来描述系统可以收集和聚焦多少的光) 用比EUV更短波长的光(射线)呢？也 ………………………………