不用EUV也能直上5nm，铠侠与合作伙伴有意率先导入

来源：内容来自「科技新报」，谢谢。在半导体工艺技术进入10纳米节点之后，EUV光刻设备是工艺中不可或缺的步骤。不过，因为EUV光刻设备每台价格高达1.5亿美元，而且产量有限，这使得芯片的生产成本骤然升高。为解决这样的问题，日本存储器大厂铠侠现在联合了合作伙伴开发了新的工艺技术，可以不使用EUV光刻设备，使工艺技术直达5纳米。根据日本媒体的报导，铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术，目前正在进行15纳米以下技术研发，预计2025年进一步达成。相较于目前已商用化的EUV技术半导体制程，铠侠表示， ………………………………