豪掷25亿元！消息称三星秘密引入ASML最强光刻机，直指2纳米.....

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当台积电稳坐全球芯片代工头把交椅时，三星正试图用一场“光刻革命”改写战局。3月11日，韩媒曝光三星电子秘密引入ASML最新一代High NA EUV光刻机，单台价格高达25亿元人民币。这场天价军备竞赛背后，藏着怎样的技术野心与市场杀招？ 光刻机中的“超级显微镜”：High NA EUV强在哪里？ ASML首代High NA EUV光刻机EXE:5000 三星此次引入的EXE:5000，是当前全球唯一能生产2纳米及以下芯片的设备。其核心突破在于两大升级： 数值孔径（NA）从0.33跃升至0.55 ，相当于显微镜分辨率提升67%，可雕刻比现有技术细1.7倍的电路线宽 反射镜尺寸增大 ，光刻精度提升至8纳米级别，逼近物理极限 这意味着搭载该设备的芯片，不仅功耗更低、数据处理更快，还能在指甲盖大小的面积内塞进 超3000亿个晶体管 ——这恰好是三星对抗台积电3纳米GAA工艺的杀手锏。 英特尔、三 ………………………………