光刻战争：谁在定义芯片的终极规则？

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当人类在微观世界雕刻纳米级电路时，光刻机正上演着工业文明的巅峰对决 光源之战：从瑞利判据到工业皇冠 在摩尔定律的催逼下， 13.5纳米的极紫外光 成为了芯片制造的"圣杯"。这个比可见光短30倍的波长，既要像外科手术刀般精准切割硅片，又要像太阳耀斑般释放足够能量。上海光机所王向朝研究员曾比喻："制造EUV光源就像用激光轰击飞行中的蚂蚁，还要在它爆炸前收集到足够的光子。" LPP（激光等离子体）技术在这场竞赛中暂时领先，其原理堪称工业奇迹： 每秒5万颗锡滴 以超音速坠落，在千分之一秒内经历两次激光轰击。首道激光将直径20微米的锡滴压成"锡饼"，第二道高能激光随即将其蒸发为等离子态。这个过程中，能量转换效率不足5.5%，意味着每产生1焦耳EUV光，就有18.2焦耳能量化作废热。 锡滴在激光轰击下形成等离子体的瞬间艺术 ………………………………