突破封锁！俄罗斯首台光刻机问世

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据快科技消息，俄罗斯首台光刻机已经制造完成，并正在进行测试。 据俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）表示，该设备可确保生产350nm的芯片。 在俄罗斯看来，尽管350nm的芯片技术相较之下显得落后， 但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。 这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，将有望减少对外部技术的依赖，并提升国内产业的自主性和竞争力。 （相关报道截图） 此前，俄罗斯曾表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺；2027年实现28nm本土芯片制造；2030年实现14nm国产芯片制造。 要知道，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构早已表示，旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，还可击败ASML同类产品。 END 编辑：雪花 来源：快科技 版权 ………………………………