中国原创光刻机残骸现身！

主要观点总结

文章讲述了中国在光刻机技术上的早期发展及现状。中国在六十年代就已经开始研制光刻机，与当时的日本同步，比韩国和台湾早了十年。但在八十年代由于政策转向，光刻机项目被砍掉，导致后来中国在半导体产业上受到制约。

关键观点总结

关键观点1: 中国早期在光刻机技术上的成就

中国在六十年代就开始研制光刻机，中国科学院研制出了65型接触式光刻机。武汉无线电元件三厂还编写了《光刻掩模版的制造》一书，总结了工艺方法。当时的中国，在光刻机技术上与日本同步，比韩国和台湾早了十年。

关键观点2: 现有光刻机产业的困境

现存的光刻机机头残破不全，只能从废铁堆里捡出残骸。曾经的辉煌科研积累如今已经化为尘土。项目在关键时刻被砍掉，导致几十年的努力白费。

关键观点3: 技术发展与国家战略的关系

科学和技术的发展需要国家战略的支撑和顶层路线的指引。在关键时刻项目被砍掉，导致了巨大的损失。如果光刻机项目当时没有被下马，中国今天可能就不会受制于人。